2026年4月22日至24日，第十九屆中國科學儀器發展年會（ACCSI2026）在北京隆重舉行。大會設置了十余場專業論壇，呈現了150余個精彩報告，全面展現了中國科學儀器領域的前沿創新與發展趨勢-。在這場行業盛會上，飛行時間二次離子質譜儀（TOF-SIMS） 成為備受關注的焦點之一。雪迪龍質譜產品經理董丹受邀發表專題報告《飛行時間二次離子質譜儀SurfaceSeer平臺及半導體應用》，深入闡述了TOF-SIMS憑借高分辨率、高靈敏度等核心技術優勢，在半導體等關鍵行業表面分析領域的應用場景與價值-。

三十余年技術積淀，SurfaceSeer TOF-SIMS國產化新征程

雪迪龍在TOF-SIMS表面分析技術領域的積累可追溯至1995年——英國Kore公司研發出SurfaceSeer TOF-SIMS第一臺工程樣機-。三十余年的持續深耕，讓SurfaceSeer 飛行時間二次離子質譜儀能夠從容應對各類微觀表面分析挑戰2026年，雪迪龍SurfaceSeer TOF-SIMS國產化機臺正式下線，這一里程碑標志著我國在二次離子質譜表面分析儀器領域實現了從技術引進到自主可控的關鍵跨越，TOF-SIMS國產化進程的加速推進，正在有效降低國內企業與科研機構對進口儀器的依賴-。

半導體TOF-SIMS表面分析儀器：覆蓋全鏈條檢測需求

SurfaceSeer 飛行時間二次離子質譜儀（TOF-SIMS） 的應用場景極為廣泛，覆蓋半導體、清潔能源、金屬及光學器件、高分子材料、生物材料、電子材料、陶瓷、藥物、生命科學等眾多領域-。該表面分析質譜儀可實現無機/有機材料表面、界面、薄層、深度剖析以及生物醫學研究-。

在半導體領域，半導體TOF-SIMS表面分析儀器的應用覆蓋芯片制造全流程-：

薄膜成分與界面元素分布分析——精準表征薄膜材料成分及界面擴散行為 

先進制程多層膜元素互擴散監測——為先進制程工藝控制提供數據支撐  

芯片制造全流程金屬沾污監控——保障芯片良率與可靠性  

光刻、刻蝕、清洗工藝殘留監控——助力工藝優化與缺陷預防

 芯片失效分析與失效根源定位——為半導體失效分析TOF-SIMS提供關鍵手段

 TOF-SIMS可檢測包括氫在內的全部元素及其同位素信息，分析深度通常小于1納米-。在半導體摻雜劑與雜質的深度剖析、薄膜成份及雜質測定等場景中，TOF-SIMS半導體檢測發揮著難以替代的作用-。

榮獲“科學儀器優秀企業"，技術實力獲行業認可

在ACCSI2026同期舉辦的儀器及檢測3i獎頒獎盛典上，雪迪龍榮獲 “2025年科學儀器優秀企業" 稱號-。這一榮譽是對公司在飛行時間二次離子質譜儀等科學儀器領域技術實力與發展成就的高度認可，多款便攜質譜產品同期展示，深化行業交流合作

ACCSI2026同期設置的特色展覽中，雪迪龍展示了便攜式氣相色譜質譜聯用儀、便攜式飛行時間質譜儀、便攜式傅里葉紅外分析儀等多款最新成果，這些產品與SurfaceSeer 飛行時間二次離子質譜儀（TOF-SIMS） 共同構成了雪迪龍從實驗室精密分析到現場快速檢測的產品矩陣，進一步深化了與行業伙伴的交流合作-。